CRYSCORE OPTOELECTRONIC LIMITED
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蓝宝石晶片 | 蓝宝石衬底

蓝宝石晶片/蓝宝石衬底

蓝宝石晶片由于其晶格失配率低、物理化学稳定性好等优点,成为制备III-V族氮化物、超导体和磁性外延薄膜的常用衬底。广泛应用于GaN/ZnO/AIN非极性和半级性外延生长、各种半导体薄膜外延生长、Silicon On Sapphire、光学窗口等。


我们全部使用光学一级晶体材料,原料全部采用99.999%高纯度单晶Al₂O₃,生产的蓝宝石晶片具有优良的表面粗糙度、平整度和洁净度,可以直接应用于半导体薄膜外延生长、光学窗口等


如果您正在寻找可靠的蓝宝石晶片供应商,请立即联系我们。

除了圆形蓝宝石晶片,方形和矩形晶圆也可供选择。我们提供各种尺寸的蓝宝石晶片,如5mm x 5mm、10mm x 10mm、10mm x 15mm、15mm x 20mm等。

蓝宝石产品-询价
  • 单晶蓝宝石的特性

    1. 蓝宝石具有很高的光学透过率,因此被广泛用作微电子管介质材料、超声传导元件、波导激光腔等光学元件,作为红外军事器件、航天飞行器、高强度激光器和光通信的窗口材料。

    2. 蓝宝石具有硬度高、强度高、工作温度高、耐磨、耐腐蚀等特点,因此常用于恶劣环境中,如锅炉水表(耐高温)、商品条码扫描器、轴承等精密制造(耐磨)、煤炭、天然气等,油井探测传感器和探测器窗口(防腐)。

    3. 蓝宝石具有电绝缘、透明、导热性好、硬度高等特点,可作为LED、微电子电路、超高速集成电路等集成电路的衬底材料。

  • 晶芯光电能提供优质蓝宝石晶片


    • 采用99.999%高纯单晶Al 光学一级材料。

    • 特殊的CMP(化学机械抛光)技术,以确保其低成本的性能。

    • 所有晶向都具有优良的表面质量(C面表面粗糙度小于0. 2 nm,A面、M面、R面、N面、V面、10-14等小于0.5nm)

    • 在100级净化间用18MΩ *cm以上超纯水清洗,以确保每一片晶片表面具有优良的洁净度。

    • 2 5片/盒或单片盒包装可最大限度地提高客户的研究灵活性。

    • 每一片晶片都有产品序列号,以便后续追溯。

    • 合理、紧凑的纸箱包装能更安全的运输并且节约成本。

    • 标准规格的晶片一般有现货,以确保能快速交付。


    作为专业的蓝宝石晶片供应商,晶芯光电致力于为客户提供高品质的蓝宝石晶片


  • 蓝宝石晶片的应用

    1. 半导体LED工业(MOCVD外延GaN衬底)

         一般来说,这一领域使用C面(0001)蓝宝石。R面(1-102)或M(10-10)面主要用于生长非极性/半极性 平面外延层以提高发光效率。

    2. Ⅲ-Ⅴ族或Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体的生长。如:氮化镓(GaN)、氮化铝(AlN)、氮化铟(InN)等。

    3. 微电子IC应用特别是超高速集成电路(SOS)

        一般来说,是一种在R面(1-102)蓝宝石晶片上异质外延硅。

    4. 混合微电子

        混合微电子产品主要有HIC和MCM,它对衬底有很高的要求。蓝宝石衬底具有介电常数稳定、介电损耗低等特点,是HIC最常用的衬底和MCM的主要衬底,通常使用A面(11-20)蓝宝石衬底。

  • 蓝宝石晶片的加工

    蓝宝石晶棒的加工流程。

    长晶:通过长晶炉生长尺寸大且高品质的单晶蓝宝石晶体。

    定向:确保蓝宝石晶体在掏棒机台上的正确位置便于掏棒加工。

    掏棒:以特定方式从蓝宝石晶体中掏取出蓝宝石晶棒。

    研磨:用外圆磨床对晶棒的外圆进行研磨,以得到精确的外圆尺寸。

    质检:确保晶棒的品质以及掏取后的晶棒尺寸与晶向是否符合客户要求。


    蓝宝石晶片的加工流程。

    定向:在切片机上准确定位蓝宝石晶棒的位置以便于精准切片。

    切片:将蓝宝石晶棒切成薄薄的晶片。

    研磨:研磨晶片以去除划伤层并改善其平整度。

    倒角:将晶片边缘修整成圆弧状,改善薄片边缘的机械强度,避免应力集中造成缺陷。

    抛光:降低晶片粗糙度使其表面达到外延片生长的精度。

    清洗:在百级净化间清洗晶片表面的污染物(如微尘、颗粒、金属有机玷污物等)。

    质量检验:使用高精度仪器检验晶片,确保达到客户使用需求。


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